2009年に東京工業大学で開発された、大気圧ダメージフリーマルチガスプラズマジェットです。
ほとんど全てのガスで大気圧ダメージフリープラズマジェットを生成できます。
ダメージフリーマルチガスプラズマジェット
マルチガスプラズマジェット
ハイエンド・マルチガスプラズマジェット用電源
新開発・小型マルチガスプラズマジェット
金属や生体を近づけても雷放電が生じず、放電損傷を与えません。また、低温プラズマを大気圧下で安定生成できます。
このため、金属、半導体、繊維、紙、生体、低融点材料への高密度プラズマ照射が実現できます。ダメージフリーなので、下の写真のように高密度プラズマに直接触れる事ができますし、アセトン等を近づけても引火しません
ダメージフリー ＝ 低温かつ放電損傷がない
従来の低温プラズマの多くはヘリウム、窒素、空気などしか使用できませんでしたが、このプラズマ源ではほとんど全てのガスで安定に大気圧プラズマを生成可能です。
さらに、CVDの原料となる有機系ガス等の混合も可能ですので、所望な組成のガスでプラズマを生成する事ができます。このため、表面洗浄、親水化・撥水化、殺菌等の単純表面処理だけでなく、酸化膜除去、コーティング、CVDなどの高度な表面処理に極めて有効なツールになります。
また、プラズマ源からプラズマが吹き出すリモートプラズマですので、処理対象物の厚みや形状を問いません。
ダメージフリーマルチガスプラズマジェットの適用例
基盤
紙・繊維
プラスチック
ガラス
パイプ内部の殺菌、コーティング